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消息称台积电首台 ASML High NA EUV 光刻系统本月进机

编辑:电脑系统网 2024-09-10 来源于:电脑系统网

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电脑系统网 9 月 9 据台湾媒体《经济日报》今天下午援引业内消息,台积电首台 ASML High NA EUV 本月将进入光刻系统设备,这将使其“持续领先”三星晶圆OEM的交机进度。

该设备的价值超过了 4 1亿欧元(计算机系统网注:目前约: 31.48 1亿元),高度超过会议室,长度远远超过前一代设备,规格特殊、精确。因此,预计与机场或港口相连的当地高速公路需要进行交通管制,或安排在特定的深夜运输到工厂,以避免交通不良。

对于行业传闻,ASML 今天回应说“不评论单一客户”,晚上台积电也提到不回应市场谣言。然而,据业界传,台积电是第一个 High NA EUV 预计本月将进入台积电全球研发中心进行研发,以满足后续先进工艺开发的需要。

据计算机系统网此前报道,今年 8 据韩国媒体报道,三星将于月份举行 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间,第一个安装来自 ASML 的 High-NA EUV 光刻机,并进行估计 2025 年中投入使用。

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