国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司 T150 A 分辨率达 120nm

电脑系统网 10 月 15 据武汉东湖新技术开发区管委会(中国光谷)今日消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域取得重大突破:

武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)推出 T150 A 通过半导体工艺量产验证，光刻胶产品实现了配方的独立设计，有望开创国内半导体光刻制造的新局面。

中国光谷官方介绍说：“该产品标杆国际龙头企业主流 KrF 光刻胶系列。与被业界称为“妖胶”的国外同系列产品相比 UV1610，T150 A 极限分辨率在光刻过程中表现出来 120nm，工艺宽容性更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优异，对后刻蚀工艺更友好。通过验证发现 T150 A 刻蚀后中密集图形，下介质侧壁垂直度优异。”

太紫微公司成立于计算机系统网查询公共信息。 2024 年 5 由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队成立的月。

太子微公司企业负责人、皇家化学协会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“以原材料开发为起点，最终获得独立知识产权配方技术，这只是一个开始，我们的团队将在不同场景下开发一系列应用 KrF 与 ArF 光刻胶，给国内相关行业带来更多惊喜。

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