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编辑:电脑系统网 2024-10-26 来源于:电脑系统网
电脑系统网 10 月 26 日消息,德州仪器 TI 本月 24 日本宣布,位于日本会津的工厂已经开始生产基于氮化镓的工厂 GaN 材料的功率半导体产品,这也意味着整个德州仪器 GaN 功率半导体的生产能力提高到以前的四倍。
▲ 德州仪器员工手持产品德州仪器技术与制造高级副总裁 Mohammad Yunus 表示:
我们凭借十多年的氮化镓芯片设计和制造专业知识,成功验证了我们 200mm(计算机系统网注: 8 英寸)氮化镓技术 —— 当今最具可扩展性和成本竞争力 GaN 制造方法 —— 并开始在会津量产。
这个里程碑使我们能够在内部创造更多 GaN 芯片,到 2030 年,我们的内部制造率将达到 95% 以上,同时还可以从德州多个地方购买仪器,保证我们的整个过程 GaN 高功率、高效半导体产品组合的可靠供应。
会津 GaN 功率半导体生产线的投入量产也意味着德州仪器可以使用 GaN 器件扩展到 900V 更高的电压创造了更广泛的应用场景;此外,德州仪器今年早些时候成功进行了 300mm(12 英寸)晶圆 GaN 试点制造工艺。
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