集邦咨询：2023 年半导体光刻胶市场收入下降 6-9%，明年有望复苏

电脑系统网 12 月 27 日消息，集邦咨询近日发布了《2023》 年度全球光刻胶市场分析，估计 2023 半年半导体光刻胶市场销售收入同比下降 6-9%。

但该机构预计，随着下游客户库存的不断改善和产能的逐步恢复，2024年 导体行业将在年半复苏，光刻胶需求有望反弹。

光刻胶（Photoresist）又称光耐腐蚀剂，是指紫外线、电子束、离子束、X 耐腐蚀剂刻膜材料的辐射或辐射，其溶解度发生变化。

光刻胶是光刻工艺中的关键材料，主要用于积体电路和分立器件的细微图形加工。

光刻胶品种繁多，此次涨价涉及到 KrF 光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。

目前，东京大贺工业、杜邦、光刻胶市场JSR、以信越化学、住友化学、东进半导体等主要制造商为主。

光刻胶行业需要高度专业化，涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业秘密。

从实验室试验到市场生产对纯度和性能的需求，巨大的技术壁垒，使整个产品开发过程既耗时又复杂。

此外，满足客户需求和生产线调整需求 1 到 3 年验证使客户难以转移现有合作的光刻胶公司。

计算机系统网上光刻胶市场分析的主要内容如下：

随着下游客户库存的不断改善，产能利用率的逐步恢复， AI、预计半导体行业将成熟和激增智能汽车等应用。 2024 年经历复苏。

半导体光刻胶市场也有望反弹，市场规模将恢复 2022 一年的历史高峰，并进一步增长，到 2027 年将超过 28 亿美元。

随着对先进工艺需求的不断增长，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻胶也将继续增长。特别是，EUV 光刻胶有望大幅增长，这主要是因为该行业追求计算能力和能源效率较高的芯片。

使用 EUV 预计技术生产的先进芯片数量将大幅增加，使 EUV 光刻胶已成为半导体光刻胶市场增长潜力最大的细分市场。预计 2025 年，EUV 光刻胶将占 10% 市场份额。

由于光刻胶生产进入壁垒高，日本制造商目前主导全球光刻胶市场，供应比例约为 80%。

特别是在 EUV、ArFi / ArF 等先进的光刻胶领域，JSR、TOK 和信越化工等日本大公司占据绝对主导地位，此前经历过多次光刻胶供应商供应中断。

为应对供应中断的风险，中韩两国都积极推进光刻胶生产的本地化。

在韩国，Dongjin Semichem 和 SK Materials 公司在先进的光刻胶领域取得了重大进展，取得了一些成果 ArFi 和 EUV 国产光刻胶。

我国中低端光刻胶产能已达到 并不断加强30% ArF 和 EUV 光刻胶领域的研发力度。ArF 光刻胶已被部分进口替代，预计未来国内产能将逐步提高。

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